T1、BLG 世界賽四強賽程確定:11/9 台灣直播查詢指南(11/8 查核)
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資料查核時間:2026年11月8日17:17,台灣時間(UTC+08:00)。
晶圓是由半導體材料製成的薄圓片,也是製造許多晶片的基板。常見的矽晶圓經過微影、蝕刻、摻雜等反覆加工後,表面會形成許多電路;再經測試、切割與封裝,才成為可供電子產品使用的晶片。
理解晶圓,有助於看懂手機、電腦與汽車所需晶片的供應鏈。除了矽,碳化矽與氮化鎵等材料也用於特定功率電子應用;材料、晶圓尺寸和製程的選擇,都會影響可製造的元件與成本。
Destaques|重點摘要
半導體是導電能力介於導體與絕緣體之間、且電性可受控制的材料。晶圓則是以半導體材料製成的薄片,供製造商在其上建立電晶體及電路。電晶體可控制電流,是處理運算、儲存資料等功能的重要元件。
最常見的晶圓材料是矽。矽可從含有二氧化矽的礦物中提煉,但沙子並不能直接做成晶片:原料必須先經過高度純化,再製成適合半導體製造的材料。除了矽,也有碳化矽等半導體材料;不同材料的電性與適用場景有所差異。
可以把晶圓想成一大片製作電路的基板,把晶粒想成上面一個個完成的電路單位。晶圓廠會在同一片晶圓上重複製作電路,再將晶圓切割成個別晶粒。晶粒經適當封裝與測試後,才能成為方便連接電路板並受到保護的元件。日常所說的「晶片」有時指晶粒,有時也指封裝後的成品,需視上下文判斷。
一片晶圓能得到多少可用晶粒,取決於晶圓尺寸、晶粒面積、邊緣排列及良率等因素。即使同一片晶圓上有許多晶粒,也不代表每一顆都能通過測試。美國半導體產業協會將製造概括為前段晶圓製造與後段組裝、測試及封裝等階段,可參考其半導體製造流程介紹。
這些步驟完成後,空白晶圓才準備進入晶圓廠製作電路。原料提純、長晶及切片流程可參考美國半導體產業協會的製造供應鏈說明。
晶圓廠會在高度潔淨、受控的環境中,反覆添加材料、轉印圖案、移除部分材料並進行檢測。以下是常見的基本操作,實際順序和重複次數會依產品及製程而不同:
這些操作會重複多次,逐層形成複雜電路,並非每個步驟只做一次。詳細原理可參考半導體產業協會的前段製程說明。完成晶圓加工後,業者還會進行電性測試、切割、封裝及最終測試;實際流程依產品而異。
業界常以8吋和12吋稱呼直徑約200毫米及300毫米的晶圓。若其他條件相同,較大晶圓提供更多面積,通常可容納更多晶粒;但圓形邊緣無法完整放下所有矩形晶粒,加上良率和設備成本等因素,不能只靠面積推算最終成本。
晶圓直徑也不等於「奈米製程」的名稱。前者描述基板尺寸,後者是製程技術的世代或命名方式;8吋晶圓仍可用於適合其設備與需求的產品,並非尺寸越大就代表每項應用都更適合。
碳化矽(SiC)適合部分高電壓功率元件;氮化鎵(GaN)也用於功率轉換等應用。氮化鎵元件不一定使用純氮化鎵晶圓,相關材料也可成長在矽等基板上。材料選擇需要同時考量電性、製造難度、可靠度及成本,可參考imec對矽基氮化鎵製程的說明。
研究機構imec於2025年啟動300毫米氮化鎵研發計畫,目標包括開發功率元件並降低製造成本;這是研發方向,並不保證所有產品都會因此降價或全面轉用該尺寸。實際效益仍取決於設備、良率與量產規模。相關進展見imec計畫公告。
不是。一片晶圓通常製作多個晶粒,經測試、切割與封裝後,才成為個別可使用的晶片或元件。
不是。矽很常見,但也有碳化矽等材料;氮化鎵元件則可在不同基板上製作。
不一定。晶圓大小主要影響可利用的製造面積;晶片特性還取決於設計、製程、材料與封裝等因素。
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